BDEAS 双（二乙基氨基）硅烷
应用
在DRAN、NAND芯片制作过程中，用于低温氧化硅膜（ALD-SiO2)沉积，作为SAPD/SAQP光刻图案化牺牲层
纯度
＞99.9999%（6N)
包装规格
13kg/19L
关键词：BDEAS 双（二乙基氨基）硅烷
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