3DMAS 三（二甲基胺基）硅烷
应用
DRAM/NAND 中温沉积SiO2层间绝缘膜；TOPCon电池超薄隧穿氧化层（SiO2）
纯度
＞99.9999%（6N)
包装规格
2.41kg/14.2kg/72kg/300kg
关键词：3DMAS 三（二甲基胺基）硅烷
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