TMA 三甲基铝
应用
在半导体、OLED、LED、太阳能电池制作过程中，用于氧化铝膜(Al2O3)沉积
纯度
>99.999%(5N)
包装规格
2.41kg/14.2kg/72kg/300kg
关键词：TMA 三甲基铝
分类：
- 产品描述
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Trimethylaluminum
三甲基铝(TMA)是一种用于ALD/PEVCD/MOCVD工艺的液态铝源，主要用于沉积氧化铝层，氮化铝以及AlGaAs、InAlAs等化合物半导体材料。在半导体制造过程中用于DRAM电容器电介质、high-k栅极电介质;在太阳能电池和OLED制造过程中用于硅表面钝化层;在OLED薄膜封装中用于水汽阻隔薄膜涂层、气体扩散阻隔膜。
■ 理化特性
分子式 (CH3)3Al 分子量 72.09 g/mol 熔点 15℃ 沸点 127.12 ℃ 蒸气压 9mmHg（20℃） 密度 0.752 g/ml 外观 无色液体 CAS 75-24-1 ■ 危险物性
危险特性说明 象形图 三甲基铝为易然液体，暴露于空气中自燃。接触水释放可自燃的易燃气体。与水剧烈反应。 
■ 质量指标
分析项目 技术指标 分析项目 技术指标 5N 6N 5N 6N 银（Ag），max 0.4 ppm 10 ppb 锂（Li），max 0.1 ppm 5 ppb 砷（As），max 0.5 ppm 10 ppb 镁（Mg），max 0.05 ppm 10 ppb 硼（B），max 0.4 ppm 10 ppb 锰（Mn），max 0.05 ppm 10 ppb 钡（Ba），max 0.1 ppm 10 ppb 钠（Na），max 0.5 ppm 20 ppb 铍（Be），max 0.2 ppm 5 ppb 镍（Ni），max 0.4 ppm 20 ppb 铋（Bi），max 0.2 ppm 5 ppb 铅（Pb），max 1 ppm 10 ppb 钙（Ca），max 0.1 ppm 10 ppb 硒（Se），max 1 ppm 10 ppb 镉（Cd），max 0.1 ppm 10 ppb 硅（Si），max 1 ppm 20 ppb 钴（Co），max 0.1 ppm 10 ppb 锡（Sn），max 0.1 ppm 10 ppb 铬（Cr），max 0.1 ppm 20 ppb 碲（Te），max 0.1 ppm 10 ppb 铜（Cu），max 0.15 ppm 20 ppb 钛（Ti），max 0.1 ppm 50 ppb 铁（Fe），max 0.1 ppm 50 ppb 钒（V），max 0.2 ppm 50 ppb 镓（Ga），max 0.2 ppm 50 ppb 锌（Zn），max 0.2 ppm 50 ppb 锗（Ge），max 0.1 ppm 50 ppb 锆（Zr），max 0.2 ppm 50 ppb 汞（Hg），max 0.1 ppm 10 ppb 有效期 36个月 36个月 钾（K），max 1 ppm 10 ppb / ■ 包装规格
2.41kg/14.2kg/72kg/300kg
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